シリコンフォトニクス集積光デバイス

現代のIC産業を支えるフォトリソグラフィ技術は極めて微細な構造を半導体基板上に大規模に形成することを可能にしており、これを用いることで光回路と電子回路を融合させた先端デバイスを小さなチップ上に高密度に集積することができます。シリコンを微細加工して光素子を作る技術や分野は特にシリコンフォトニクスと呼ばれます。本研究室ではこのシリコンフォトニクス回路を構成する光導波路や受光器、回折格子といった光学素子や、それらと電子回路を組み合わせた応用デバイスを研究しています。


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